[发明专利]θ调制全息光栅的制作方法无效
申请号: | 200910014173.8 | 申请日: | 2009-02-18 |
公开(公告)号: | CN101487975A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 仲明礼;仲伟路 | 申请(专利权)人: | 潍坊学院 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G02B5/18;G03H1/04 |
代理公司: | 潍坊正信专利事务所 | 代理人: | 宫克礼 |
地址: | 261061山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种θ调制全息光栅的制作方法,其步骤为:将一块θ调制全息光栅作为母光栅,母光栅放置于4F光学系统的物平面,根据母光栅的频谱制作滤波器,在4F光学系统的像片面放置感光底片,进行曝光,然后显影、定影、吹干、边框制作等处理,完成θ调制光栅制作;采用4F光学系统和空间滤波技术,对感光底片进行一次性曝光制作出θ调制全息光栅,适用于透射型母光栅和位相型母光栅,能滤除母光栅的瑕疵;本发明简便快速、容易实现、成本低,效果好。 | ||
搜索关键词: | 调制 全息 光栅 制作方法 | ||
【主权项】:
1. θ调制全息光栅的制作方法,其特征在于,步骤为:准备一块θ调制全息光栅作为母光栅,将母光栅放置于4F光学系统的物平面,在4F光学系统的频谱面上将得到母光栅的频谱;用滤波器在频谱面上进行滤波,每一个排列方向只允许其中设定级的频谱通过;将感光底片置于4F光学系统像平面进行曝光,再经显影、定影处理,即完成θ调制光栅制作。
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