[发明专利]基于缺陷边界值变化次数的IC缺陷分类方法有效
| 申请号： | 200910020850.7 | 申请日： | 2009-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN101477065A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 刘红侠;周文;高博 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956 |
| 代理公司： | 陕西电子工业专利中心 | 代理人： | 王品华;黎汉华 |
| 地址： | 71007*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对集成电路缺陷进行分类的方法。其步骤为，首先计算缺陷的灰度值MA，并根据灰度值将缺陷分为多余物缺陷和丢失物；再次对没有缺陷的标准图像进行二值化处理；然后对多余物缺陷和丢失物缺陷同时进行3×3全1矩阵的膨胀运算，并利用标准图像二值化的结果，计算不同缺陷在陷膨胀运算后的边界值变化次数；最后根据缺陷的边界值变化次数对不同缺陷进行细分，即对于丢失物缺陷，当边界值变化次数小于等于2时，为互连线上的孔洞缺陷，否则为断路缺陷；对于多余物缺陷，当边界值变化次数大于2时，为短路缺陷，否则为背景中的多余物缺陷。本发明具有分类方法简单、速度快、正确率高，能够在集成电路和电路板产品的各个时期对缺陷分类。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 缺陷 边界 变化 次数 ic 分类 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种基于缺陷边界值变化次数的IC缺陷分类方法，包括如下步骤：(1)计算缺陷的灰度值MA，并根据灰度值将缺陷分为多余物缺陷和丢失物缺陷两类；(2)对没有缺陷的标准图像进行二值化处理；(3)对多余物缺陷和丢失物缺陷同时进行3×3全1矩阵的膨胀运算，并利用标准图像二值化的结果，计算不同缺陷在陷膨胀运算后的边界值变化次数；(4)根据缺陷的边界值变化次数对不同缺陷进行细分，即对于丢失物缺陷，当边界值变化次数小于等于2时，为互连线上的孔洞缺陷，否则为断路缺陷；对于多余物缺陷，当边界值变化次数大于2时，为短路缺陷，否则为背景中的多余物缺陷。
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