[发明专利]高韧性纳米晶硅化物涂层的制备方法有效
| 申请号： | 200910029137.9 | 申请日： | 2009-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN101481791A | 公开（公告）日： | 2009-07-15 |
| 发明（设计）人： | 徐江;徐重;王平 | 申请（专利权）人： | 江苏华阳金属管件有限公司;南京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/36 | 分类号： | C23C14/36 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙） | 代理人： | 陈 扬 |
| 地址： | 212400江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高韧性纳米晶硅化物涂层的制备方法，它利用双阴极等离子溅射沉积技术，通过调节靶材与工件电压以及通入真空室中的氩气气压，来控制靶材的溅射量与工件表面的温度，在钛合金表面形成致密的纳米晶硅化物层，双阴极溅射工艺参数为：靶材电压：500~1000V；工件电压：300~450V；靶材与工件间距：10~30mm；氩气气压：20~45Pa；溅射的靶材种类：Cr-Si合金等；工件材料的种类：钛合金。本发明制备的纳米晶硅化物涂层与普通粗晶硅化物材料相比具有较高的韧性、抗氧化性和耐高温高耐磨性。本发明适用于航空航天推进领域，是一种不可缺少的耐高温高耐磨特种涂层材料。 | ||
| 搜索关键词： | 韧性 纳米 晶硅化物 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
1一种高韧性纳米晶硅化物涂层的制备方法，其特征在于：它利用双阴极等离子溅射沉积技术，通过调节靶材与工件电压以及通入真空室中的氩气气压，来控制靶材的溅射量与工件表面的温度，在钛合金表面形成致密的纳米晶硅化物层，其中(1)双阴极溅射工艺参数：靶材电压 500~1000V工件电压 300~450V靶材与工件间距 10~30mm氩气气压 20~45Pa(2)溅射的靶材种类：Cr-Si合金、Al-Si合金，Ni-Si合金，Co-Si合金，Nb-Si合金，Mo-Si合金中的任意一种；(3)工件材料的种类：钛合金。
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