[发明专利]绝缘体上硅材料的平板显示器驱动芯片及制备方法有效
申请号: | 200910032750.6 | 申请日: | 2009-06-19 |
公开(公告)号: | CN101587901A | 公开(公告)日: | 2009-11-25 |
发明(设计)人: | 孙伟锋;陈越政;钱钦松;夏晓娟;吴虹;时龙兴 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/06;H01L21/84;H01L21/76;H01J17/49 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陆志斌 |
地址: | 21009*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 显示器驱动芯片,由高压P型横向金属氧化物半导体管、高压N型横向金属氧化物半导体管、高压二极管和低压器件构成,各高压器件之间和高压与低压器件之间以始自埋氧层经过N型外延层终止于器件表面场氧并填充有二氧化硅的双槽隔离,在高压N型横向金属氧化物半导体管和高压二极管电极下方的埋氧层上方设有部分N型或P型重掺杂埋层。制备方法:在P型衬底上制作埋氧层,在埋氧层上方制作部分N型或P型重掺杂埋层,淀积N型外延层,制作高压N型横向金属氧化物半导体管和高压二极管的高压P阱及高压P型横向金属氧化物半导体管的P型漂移区,高压管的缓冲层、低压器件的低压阱,源漏区及接触孔,蒸铝,反刻铝,形成电极和金属场板,钝化处理。 | ||
搜索关键词: | 绝缘体 材料 平板 显示器 驱动 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种显示器驱动芯片,包括P型衬底(9),在P型衬底(9)上设有埋氧层(7),在埋氧层(7)上设有高压P型横向金属氧化物半导体管(1)、高压N型横向金属氧化物半导体管(2)、高压二极管(3)和低压器件(4),其特征在于高压P型横向金属氧化物半导体管(1)与高压N型横向金属氧化物半导体管(2)相邻且高压P型横向金属氧化物半导体管(1)的漏端与高压N型横向金属氧化物半导体管(2)的源端相邻,高压二极管(3)位于高压N型横向金属氧化物半导体管(2)与低压器件(4)之间,在高压P型横向金属氧化物半导体管(1)一侧设有第一双槽结构,在高压P型横向金属氧化物半导体管(1)另一侧与高压N型横向金属氧化物半导体管(2)之间设有第二双槽结构,在高压N型横向金属氧化物半导体管(2)与高压二极管(3)之间设有第三双槽结构,在高压二极管(3)与低压器件(4)之间设有第四双槽结构,在低压器件(4)之间没有槽结构隔离,在低压器件(4)另一侧设有第五双槽结构,第一双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(91A)和第二氧化隔离层(91B)组成,第二双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(92A)和第二氧化隔离层(92B)组成,第三双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(93A)和第二氧化隔离层(93B)组成,第四双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(94A)和第二氧化隔离层(94B)组成,第五双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(95A)和第二氧化隔离层(95B)组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910032750.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:移动式等离子焊接烟尘净化机
- 下一篇:一种测定液体表面张力系数的实验装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的