[发明专利]曝光焦点的监控方法无效
| 申请号： | 200910033793.6 | 申请日： | 2009-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN101907830A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 杨要华;刘志成;张辰明;胡骏 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214061 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种曝光焦点的监控方法，包括：在预定离焦距离的范围内，以任选的离焦距离形成至少两个曝光图形；分别测量各曝光图形的顶部宽度与底部宽度；计算各曝光图形的顶部宽度与底部宽度的差值；根据差值与对应的离焦距离计算预定的系数。根据该曝光焦点的监控方法，可以在最少仅需两组数据的情况下即确定最终所得曝光图形的尺寸与曝光焦点的关系。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 焦点 监控 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光焦点的监控方法，包括：在预定离焦距离的范围内，以任选的离焦距离形成至少两个曝光图形；分别测量所述各曝光图形的顶部宽度与底部宽度；计算所述各曝光图形的顶部宽度与底部宽度的差值；根据所述差值与对应的离焦距离计算预定的系数。
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