[发明专利]测量光学非线性的两次4f相位相干成像方法和装置无效
| 申请号： | 200910033969.8 | 申请日： | 2009-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN101571481A | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 宋瑛林;杨俊义;李常伟;金肖;税敏 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G01N21/45 | 分类号： | G01N21/45;G01N21/01 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种测量光学非线性的两次4f相位相干成像装置，主要由入射光路、测量光路和参考光路构成，入射激光束由分束镜分成两束，一束为探测光进入测量光路，另一束为参考光，进入参考光路，测量光路中，由第一凸透镜和第二凸透镜构成4f相位相干成像系统，待测样品放置在第一凸透镜的焦平面上，在第二凸透镜光路中设有全反镜，探测光自第一凸透镜入射，照射在待测样品上，透射光经第二凸透镜后，由全反镜反射，反射光再次反向进入4f相位相干成像系统中，最后由分束镜反射进入CCD相机；参考光路与测量光路的出射光照射在同一个CCD相机上。本发明利用两次4f相位相干成像测量材料非线性的装置，提高了系统的测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 光学 非线性 两次 相位 相干 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种测量光学非线性的两次4f相位相干成像装置，主要由入射光路、测量光路和参考光路构成，所述入射光路包括扩束系统、相位光阑(3)和分束镜(4)，入射激光束由分束镜(4)分成两束，一束为探测光进入测量光路，另一束为参考光，进入参考光路，所述测量光路中，由第一凸透镜(9)和第二凸透镜(11)构成4f相位相干成像系统，待测样品(10)放置在第一凸透镜(9)的焦平面上，其特征在于：在第二凸透镜(11)光路中设有全反镜(12)，所述探测光自第一凸透镜(9)入射，照射在待测样品(10)上，透射光经第二凸透镜(11)后，由全反镜(12)反射，反射光再次反向进入4f相位相干成像系统中，最后由分束镜(4)反射进入CCD相机(8)；参考光路与测量光路的出射光照射在同一个CCD相机(8)上。
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