[发明专利]多用途批量制备CVD金刚石膜的工业设备有效
申请号: | 200910043584.X | 申请日: | 2009-06-03 |
公开(公告)号: | CN101560649A | 公开(公告)日: | 2009-10-21 |
发明(设计)人: | 魏秋平;余志明;娄俊岭;陈永勤;杨永青;尹登峰 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/44;C23C16/54 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所 | 代理人: | 邓建辉 |
地址: | 410083*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种多用途批量制备CVD金刚石膜的工业设备,包括真空环形反应室和气体裂解热丝、气体进排放锥面窄缝通气腔、行星轮系、用于放置基体的基体安装架装置、上下整流罩、冷却腔以及腔外滤油循环通道,所述的气体进排放锥面窄缝通气腔和整流罩使气流束集在基体和热丝之间的环形狭小区域内,以提高气体被裂解的比例,提高气体的利用率。气体裂解热丝沿环形反应腔壁竖直排列设置,提高移动时的强度且更换方便。行星轮系带动基体安装架自转和公转。基体安装架上可同时固定大量线形、片状等多类基体。腔外滤油循环通道连接排气口和进气口并滤除气体中混杂的油,循环利用反应气体,进一步提高混合气体的利用率。 | ||
搜索关键词: | 多用途 批量 制备 cvd 金刚石 工业 设备 | ||
【主权项】:
1、一种多用途批量制备CVD金刚石膜的工业设备,包括气体裂解热丝(7),其特征是:底座(17)上设有上盖(1),所述的底座(17)内设有内基座(16),所述的底座(17)设有窄缝气体束集腔(36),在所述的内基座(16)上设有旋转台(21)及其旋转台驱动装置,所述的旋转台(21)与所述的上盖(1)的侧壁之间形成有窄缝环形反应腔(35),与所述的上盖(1)顶端之间形成有窄缝气体均布腔(34),在所述的环形反应腔(35)内设有下整流罩,在所述的旋转台(21)上设有上整流罩(2),在所述的旋转台(21)上设有基体安装架,所述的气体裂解热丝(7)沿所述的环形反应室(35)的内壁周向竖直排列设置且与所述的基体安装架对应,由真空泵(31)、滤油器(32)和补气管设备(33)组成的腔外滤油循环通道一端通过排气口(38)与所述的窄缝气体束集腔(35)连接,另一端通过进气口(39)与所述的窄缝气体均布腔(34)连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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