[发明专利]一种磁流变斜轴抛光方法及装置有效
申请号: | 200910043610.9 | 申请日: | 2009-06-05 |
公开(公告)号: | CN101564824A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 尹韶辉;陈逢军;唐恒宁;范玉峰;朱永建 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | B24B13/00 | 分类号: | B24B13/00;B24B13/01;B24B19/20 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人: | 马 强 |
地址: | 410082*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 一种磁流变斜轴抛光方法及装置,涉及精密光整加工技术领域;抛光工具头和工件轴向方向成一定的角度,使得抛光工具头工作圆弧法线与工件抛光表面法线重合。抛光工具头外壳旋转,而且该外壳中的轴后端穿过调速电机空心轴并同机体固定连接;固定轴装有励磁装置,抛光工具头外壳较小前端区域一部分有磁场,另一部分无磁场或弱磁场,便于磁流变液更新;工件与磁流变体的接触点始终是工件抛光区域的法向方向,抛光工具头外壳旋转,磁流体在抛光工具头与工件间隙处产生高剪切力,从而使材料微量去除。采用斜轴抛光,防止产生干涉,通过路径规划与控制相关参数,能对微小非球面光学零部件及其模具以及常规尺寸的工件表面进行确定性超精密抛光加工。 | ||
搜索关键词: | 一种 流变 斜轴 抛光 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种磁流变斜轴抛光方法,其特征是,该方法为:采用旋转的抛光头且该抛光头顶端周边为圆弧,所述抛光头前端沿径向为一部分有磁场而另一部分无磁场或有较弱磁场;所述抛光头同工件轴向方向成一定角度而使得抛光工件时抛光头的圆弧法线始终与工件抛光表面法线重合,所述工件与磁流变体的接触点始终是工件抛光区域的法向方向。
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