[发明专利]光刻装置和方法无效
| 申请号： | 200910045979.3 | 申请日： | 2009-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN101782721A | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 刘庆炜 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻装置和方法，其中，光刻装置包括：照明单元，用于提供原始入射光线；掩模单元，用于提供转移图案，所述原始入射光线在所述转移图案上发生衍射，产生包含零级光和一级光的多级衍射光；透镜，用于聚焦所述多级衍射光；光阑，用于与所述透镜相配合，在第一平面形成关于所述转移图案的像；其中，在所述透镜和所述光阑之间，还包括：调整单元，用于对从所述透镜出射的多级衍射光进行光路调整，使进入所述光阑成像的至少包括一级光。本发明提高了成像的准确性，有效地提升了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻装置，包括：照明单元，用于提供原始入射光线；掩模单元，用于提供转移图案，所述原始入射光线在所述转移图案上发生衍射，产生包含零级光和一级光的多级衍射光；透镜，用于聚焦所述多级衍射光；光阑，用于与所述透镜相配合，在第一平面形成关于所述转移图案的像；其特征在于，在所述透镜和所述光阑之间，包括：调整单元，用于对从所述透镜出射的多级衍射光进行光路调整，使进入所述光阑成像的光至少包括零级光和一级光。
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