[发明专利]掩模版定位机构有效

专利信息
申请号: 200910046832.6 申请日: 2009-02-27
公开(公告)号: CN101493657A 公开(公告)日: 2009-07-29
发明(设计)人: 方洁;齐芊枫;齐宁宁;郑椰琴 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈 蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种掩模版定位保护机构,通过驱动模块驱动摆臂,使摆臂前端能够顶靠在掩模版的边缘,将多个掩模版定位机构设置在掩模版周边并联合运动,从而夹持所述掩模版并限制其X/Y/RZ向的自由度。该掩模版定位保护机构能够防止任何微小的位移,同时避免在真空意外丢失情况下掩模版飞出;如果发生意外,也不需要更换掩模版或对其进行重复预对准。其中,所述驱动模块具有锁定缓冲单元,从而能够实现驱动—锁定—缓冲—复位的功能,最大限度的保护掩模版,不会对其产生任何损伤或影响。
搜索关键词: 模版 定位 机构
【主权项】:
1、一种掩模版定位机构,其特征在于:包括基座、驱动模块及摆臂,其中所述驱动模块驱动所述摆臂在一定角度内进行摆动,使得所述摆臂前端能够顶靠在所述掩模版的边缘;将多个所述掩模版定位机构设置在掩模版周边并联合运动,以夹持所述掩模版并限制其X、Y、RZ向的自由度。
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