[发明专利]多重成像光刻装置以及方法有效
| 申请号： | 200910047580.9 | 申请日： | 2009-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN101510057A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 蔡燕民 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种多重成像光刻装置及其方法，多重成像光刻装置包括照明光源、掩模台、掩模、投影物镜、工件台、基底及其它测量装置，且多重成像光刻装置还包括二元相位光栅，二元相位光栅设置于掩模和投影物镜之间。本发明多重成像光刻装置及其方法，利用二元相位光栅可以将硅片上多个曝光视场同时曝光，不需要消耗曝光视场之间的步进运动时间以及稳定时间，是一种高产率的光刻方法及光刻装置。 | ||
| 搜索关键词： | 多重 成像 光刻 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种多重成像光刻装置，包括照明光源、掩模台、掩模、投影物镜及基底，其特征在于，还包括：二元相位光栅，设置于上述掩模和上述投影物镜之间。
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