[发明专利]一种在钢铁表面制备装饰性TiN薄膜的工艺无效
| 申请号： | 200910047912.3 | 申请日： | 2009-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101503794A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 刘继华;钱士强;林文松;何佳 | 申请（专利权）人： | 上海工程技术大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何葆芳 |
| 地址： | 200336*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在钢铁表面制备装饰性TiN薄膜的工艺，该工艺为磁控溅射法，包括溅射前处理、准备和溅射成膜过程，其特征在于，溅射成膜过程的具体工艺参数如下：本底真空度为10-4Pa，氮气和氩气的总压为0.1～1.0Pa，氮气与氩气的流量比为1∶24～1∶2，磁控溅射时的温度为25～300℃、功率为60～100W、电压为0.2～0.4KV、电流为0.1～0.75A、溅射时间为20min～4hr。本发明可制得多种颜色的TiN薄膜，且所获得的薄膜纯度高、致密性好，与基体结合力良好，膜厚可控制、可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜；处理后的钢铁具有良好的耐蚀性、耐磨性和装饰性，可有多种用途。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 钢铁 表面 制备 装饰性 tin 薄膜 工艺 | ||
【主权项】：
1. 一种在钢铁表面制备装饰性TiN薄膜的工艺，为磁控溅射法，包括溅射前处理、准备和溅射成膜过程，其特征在于，溅射成膜过程的具体工艺参数如下：本底真空度为10-4Pa，氮气和氩气的总压为0.1～1.0Pa，氮气与氩气的流量比为1∶24～1∶2，磁控溅射时的温度为25～300℃、功率为60～100W、电压为0.2～0.4KV、电流为0.1～0.75A、溅射时间为20min～4hr。
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