[发明专利]离轴对准系统及其对准方法有效
| 申请号： | 200910048641.3 | 申请日： | 2009-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN101533231A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 方立;孙刚 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离轴对准系统，用于光刻装置确定硅片与工件台的位置关系。离轴对准系统包括：沿X向和Y向放置激光干涉仪，测量离轴光轴和工件台的位置；零位传感器，放置在工件台最大运动范围的边缘，提供激光干涉仪初始化信号；离轴光学系统和其侧面的两个离轴反射面，与X、Y向分别垂直；以及工件台侧面两个工件台反射面，与X、Y轴分别垂直，所述离轴反射面和所述工件台反射面用来反射所述激光干涉仪发出的测量光束。本发明提供的离轴对准系统中加入激光干涉仪，能够实时检测离轴对准系统中离轴光轴的偏移，保证了硅片对准的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种离轴对准系统，用于光刻装置中确定硅片与工件台的位置关系，其特征在于，离轴对准系统包括：激光干涉仪系统，分别测量工件台和离轴光轴的X、Y向位置；零位传感器，放置在工件台最大运动范围的边缘，提供所述激光干涉仪初始化信号；离轴光学系统，侧面具有与X、Y轴分别垂直的两个离轴反射面；以及位于工件台侧面与X、Y轴分别垂直的两个工件台反射面，所述离轴反射面和所述工件台反射面用来反射所述激光干涉仪系统发出的测量光束，以确定所述离轴光轴和所述工件台的位置。
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