[发明专利]光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法有效

专利信息
申请号: 200910048695.X 申请日: 2009-04-01
公开(公告)号: CN101526461A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 张东;贺洪波;赵元安;夏燏 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01N17/00 分类号: G01N17/00;G01N21/88;G01N21/49
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法,该方法是用具有一定能量密度的一串序列激光脉冲辐照待测薄膜样品的不同测试点,确定并记录每个测试点的损伤状态,计算出该能量密度下的弱损伤几率;多次改变激光的能量密度辐照待测薄膜样品的不同测试点,确定并记录各测试点的损伤状态,分别计算每个能量密度下的弱损伤几率;以能量密度和弱损伤几率分别为横坐标和纵坐标制作弱损伤几率随激光能量密度的变化曲线,用该几率曲线的损伤几率峰值所对应的能量密度来评价该光学薄膜抗重复频率激光损伤的特性。该能量密度越大,光学薄膜抗重复频率激光损伤的特性就越好。本发明使评价光学薄膜产品抗重复频率激光损伤特性的方法更加简单和实用。
搜索关键词: 光学薄膜 重复 频率 激光 损伤 特性 评价 方法
【主权项】:
1、一种光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法,该方法是用具有一定能量密度的一串序列激光脉冲辐照待测薄膜样品的不同测试点,确定并记录每个测试点的损伤状态,计算出该能量密度下的弱损伤几率;多次改变激光的能量密度辐照待测薄膜样品的不同测试点,确定并记录各测试点的损伤状态,分别计算出每个能量密度下的弱损伤几率;以能量密度、弱损伤几率分别为横坐标和纵坐标画图,得到弱损伤几率随激光能量密度的变化曲线,用该几率曲线的损伤几率峰值所对应的能量密度来评价该光学薄膜抗重复频率激光损伤的特性,该能量密度越大,光学薄膜抗重复频率激光损伤的特性就越好。
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