[发明专利]发光二极管芯片及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910049930.5 申请日: 2009-04-24
公开(公告)号: CN101872813A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 刘胜;甘志银;汪沛;周圣军 申请(专利权)人: 刘胜
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 李平
地址: 430074 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发光二极管芯片及其制造方法,高热导率材料作为LED芯片的支撑衬底,支撑衬底上依次为键合材料层、反射层、透明电极层、外延层、n面电极,其制造方法为蓝宝石衬底GaN外延片上蒸镀透明导电层;在导电层上蒸镀反射层;在反射层上涂敷键合材料层,将蓝宝石衬底GaN外延片键合到衬底上;用机械研磨、化学机械抛光、湿法腐蚀相结合去除蓝宝石衬底;采用电感耦合等离子体刻蚀n-GaN、有源层和p-GaN,用氢氧化钾溶液将未掺杂的GaN层刻蚀掉,并对n-GaN表面进行粗化;蒸镀n面电极到n-GaN层,形成欧姆接触。本发明的优点是避免了采用激光剥离蓝宝石衬底对GaN基LED外延层和键合层造成的损伤,同时利用高热导率衬底提高散热效率。
搜索关键词: 发光二极管 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
一种发光二极管芯片,包括:高热导率的衬底、键合材料层、反射层、透明导电层和发光二极管外延层,其特征在于高热导率材料作为垂直结构发光二极管芯片的支撑衬底,支撑衬底上面为键合材料层,键合材料层上面是反射层,反射层上面为透明导电层,透明导电层上为发光二极管外延层,发光二极管外延层上面是n面电极。
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