[发明专利]一种具有周期性纳米结构的高分子膜的制备方法及所用模板有效

专利信息
申请号: 200910049959.3 申请日: 2009-04-24
公开(公告)号: CN101870772A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 李景烨;黄庆;邓波;于洋;吕敏 申请(专利权)人: 中国科学院上海应用物理研究所
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 薛琦;朱水平
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种周期性纳米结构高分子膜的制备方法,其包括下述步骤:(1)将高分子材料溶解在有机溶剂中,加热溶解得到铸模液;(2)将铸模液滴加到模板上,通过旋涂法在模板上制备得到湿态高分子膜;(3)将湿态高分子膜中的有机溶剂除去,至高分子膜为恒重后得到干态高分子膜;(4)在去离子水中通过超声震荡将干态高分子膜从模板上脱除,即得。本发明还提供了所述的周期性纳米结构高分子膜的制备方法中使用的模板。本发明的周期性纳米结构高分子膜的制备方法重复性好、制备速度快、简单易行且经济。
搜索关键词: 一种 具有 周期性 纳米 结构 高分子 制备 方法 所用 模板
【主权项】:
一种用于制备周期性纳米结构高分子膜的模板,其特征在于:其包括一个基底以及一个附着于基底上的表面,所述的表面具有纳米尺度的周期性花纹。
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