[发明专利]基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法有效
申请号: | 200910050310.3 | 申请日: | 2009-04-30 |
公开(公告)号: | CN101551594A | 公开(公告)日: | 2009-10-07 |
发明(设计)人: | 彭勃;王向朝;邱自成;袁琼雁;曹宇婷;王渤帆 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法,本发明的特点是通过使用二极照明方式代替常规照明方式,优化了二极照明方式下作为检测标记的移相光栅的周期参数,利用该检测标记检测光刻机投影物镜的波像差,检测精度明显提高。 | ||
搜索关键词: | 基于 二极 照明 光刻 投影 物镜 奇像差 检测 系统 方法 | ||
【主权项】:
1、一种二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统,包括:产生照明光场的照明光源(1);照明系统(2);用于承载测试掩模(3)并拥有精确定位能力的掩模台(4);能将通过测试掩模(3)上的检测标记(5)的光束汇聚到硅片面且数值孔径可调的投影物镜(6);能承载硅片并具有三维扫描能力和精确定位能力的工件台(7);安装在该工件台(7)上的像传感器(8),与所述像传感器(8)相连并能进行数据处理的计算机(9),其特征在于:所述的照明光源(1)是二极照明光源,该二极照明光源包括两组二极连线互相垂直的照明方式,二极照明光源的两极光源由两个圆形扩展光源构成,极相干半径因子为0.2,两极光源的极中心相干因子在0.3至0.8的范围之间调整;所述的照明系统(2)用于调整所述二极照明光源产生的二极照明光场的光强分布、极中心相干因子和极相干半径因子;所述的检测标记(5)由两组移相光栅组成,分别为y方向测试标记(51)和x方向测试标记(52),两组光栅的线条方向分别为y方向和x方向;当检测x方向奇像差时采用x方向检测标记(52),当检测y方向奇像差时采用y方向检测标记(51);所述移相光栅为交替型移相光栅,相邻透光区域的相位差为180度,相位区域即透光区域的宽度记为Pw,光栅周期P为不透光区域和透光区域的宽度之和;所述移相光栅的线空比为1∶2,即光栅相位区域宽度pw和光栅周期P的比值为2∶3。
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