[发明专利]低磁场下具有巨磁热效应的Gd5Si2-xGe2-xZn2x和Gd5Si2-yGe2Zny合金有效

专利信息
申请号: 200910050328.3 申请日: 2009-04-30
公开(公告)号: CN101555563A 公开(公告)日: 2009-10-14
发明(设计)人: 侯雪玲;胡星浩;汪学真;张鹏;徐晖;倪建森;周邦新 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C22C28/00 分类号: C22C28/00;H01F1/047
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种低磁场下具有巨磁热效应的Gd5Si2-xGe2-xZn2x合金,其中0.001≤2x≤0.8;Gd5Si2-yGe2Zny,其中0.001≤y≤0.8。本发明通过高传导电子Zn元素对基体Gd5Si2Ge2的合金化处理,使4f电子与传导电子杂化程度发生变化,诱发合金中元素的化合价和合金的自旋波能量变化,使合金的一级相变容易发生,合金对外加磁场变化响应敏感,降低合金发生一级相变的临界诱发磁场和相变过程中产生的磁滞后,提高了合金在低磁场下的磁热效应和磁制冷循环过程的效率。
搜索关键词: 磁场 具有 热效应 gd sub si ge zn 合金
【主权项】:
1.一种低磁场下具有巨磁热效应的Gd5Si2-xGe2-xZn2x合金,其特征在于该合金具有以下化学组成式:Gd5Si2-xGe2-xZn2x,其中0.001≤2x≤0.8。
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