[发明专利]一种窄带干涉滤光片的镀制工艺无效
| 申请号： | 200910050698.7 | 申请日： | 2009-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN101555102A | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 汤兆胜 | 申请（专利权）人： | 上海兆九光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;G02B1/10;G02B5/28 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 脱 颖 |
| 地址： | 201600上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种窄带干涉滤光片的镀制工艺，包括在玻璃基片上镀膜步骤，镀膜包括非耦合层和耦合层，其特征在于，在镀膜时，采用光学膜厚监控法控制非耦合层的膜厚；采用晶体振荡法控制耦合层的膜厚。本发明中的窄带干涉滤光片的镀制工艺的优点在于结合了光控和晶控的各自优势。目前的国产镀膜机控制精度低，在镀膜过程中各参数，尤其是折射率，控制不稳定，使用本发明中的窄带干涉滤光片的镀制工艺，可减轻因镀膜机控制精度低的缺陷，提高镀制精度。利用此工艺解决了国产镀膜机镀制高难度的窄带滤光片的难题。此工艺控制过程简单，镀制窄带滤光片的成功率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 窄带 干涉滤光片 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种窄带干涉滤光片的镀制工艺，包括在玻璃基片上镀膜步骤，镀膜包括非耦合层和耦合层，其特征在于，在镀膜时，采用光学膜厚监控法控制非耦合层的膜厚；采用晶体振荡法控制耦合层的膜厚。
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