[发明专利]刺激响应性聚合物刷的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910052150.6 申请日: 2009-05-27
公开(公告)号: CN101560062A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 印杰;姜学松;贾新雁;刘睿 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C03C17/30 分类号: C03C17/30;C04B41/49
代理公司: 上海交达专利事务所 代理人: 毛翠莹
地址: 200240*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种刺激响应性聚合物刷的制备方法,制备一种可修饰表面的对温度有刺激响应性的聚合物刷,属于微纳米材料制备技术领域。先将基片用含浓硫酸和双氧水的混合溶液进行表面清洁处理后,再进行环氧硅烷偶联剂自组装,然后再采用光引发剂进行接枝,获得刺激响应性聚合物刷。本发明通过自组装技术将含有共引发剂胺的硫杂蒽酮光引发剂固定在基体材料表面,经由表面光引发聚合制备聚合物刷,操作简单,引发剂接枝密度高,引发聚合的效率高速度快,广泛适用于能够进行光引发聚合的单体,应用前景广阔。
搜索关键词: 刺激 响应 聚合物 制备 方法
【主权项】:
1、一种刺激响应性聚合物刷的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)将基片放在浓硫酸和双氧水的混合溶液中煮沸处理1-2h,混合溶液中浓硫酸与双氧水的质量比为7∶3,然后将基片置于丙酮中超声10-30min,最后用去离子水冲洗、烘干,去除基片表面的有机物和杂质;2)将洗净烘干的基片浸入3-环氧丙醇丙氧基三甲氧基硅烷的浓度为1-10mM的甲苯溶液中静置2h-24h,然后将取出的基片先后在甲苯和丙酮中超声清洗,烘干,得到环氧硅烷偶联剂自组装的基片;3)将环氧硅烷偶联剂自组装的基片浸入光引发剂浓度为2-10mM的氯仿溶液中,避光40℃加热2-12h,取出后在氯仿中超声清洗,烘干,获得表面引发剂接枝的基片;所述光引发剂为含有共引发剂胺的硫杂蒽酮光引发剂;4)将表面引发剂接枝的基片浸入刺激响应性聚合物单体浓度为0.5-5M的溶液,通氮气30min除氧后紫外光照,光照时间30min-5h;反应后将基片在甲苯、氯仿、丙酮或纯酒精中超声清洗,烘干,得到刺激响应性聚合物刷。
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