[发明专利]专利分析中技术热点与空白点的分析系统及方法无效
| 申请号： | 200910052265.5 | 申请日： | 2009-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN101714150A | 公开（公告）日： | 2010-05-26 |
| 发明（设计）人： | 郭玲;魏国柱;唐向东 | 申请（专利权）人： | 上海汉光知识产权数据科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/30 | 分类号： | G06F17/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种专利分析中技术热点与空白点的分析系统及方法，其通过矩阵图直观地显示某一特定技术领域内专利技术的热点与空白点，该矩阵图横轴为专利达到的功能效果，纵轴为专利所采用的技术手段，交叉点表示该相应技术手段实现该功能效果的专利数量。通过该分析系统，可使企业从大量专利信息中一目了然看出专利技术的热点与空白点，快速抓住所关注的专利技术信息，提高分析的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 专利 分析 技术 热点 空白点 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种专利分析中技术热点与空白点的分析系统，其特征在于：包括一专利数据库，存贮专利数据；一专利技术分析模块，包含专利数据采集子模块，用于根据所需分析的专利主题在专利数据库中采集相关的专利数据；数据加工子模块，用于将采集到的数据进行加工；数据标引子模块，用于将加工后的数据按技术手段和功能效果进行标引；数据计算子模块，用于按技术手段和功能效果计算标引的数量；一技术热点与空白点的图像输出模块，用于输出一矩阵图，该矩阵图横轴为专利达到的功能效果，纵轴为专利所采用的技术手段，交叉点表示该相应技术手段实现该功能效果的专利数量，所述交叉点图形形状的面积与数量成比例。
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