[发明专利]MOSFET BSIM3热载流子注入可靠性模型的建模方法有效
申请号: | 200910052963.5 | 申请日: | 2009-06-12 |
公开(公告)号: | CN101571884A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | 任铮;禹玥昀;唐逸;胡少坚;石艳玲;周伟 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司;华东师范大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50;H01L29/78 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王 洁 |
地址: | 201203上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种MOSFET BSIM3 HCI可靠性模型的建模方法,属于集成电路器件模拟技术领域。在该建模方法中选取与偏压大小条件相关的第一标准参数作,使该方法建立的BSIM3 HCI可靠性模型其具有清晰的物理意义及高度的准确性,能够对不同偏压条件下不同偏压时间的MOSFET电学特性进行准确模拟,其模拟输出曲线能反映MOSFET特性随施压偏压及其偏压时间明显变化的现象。因此,对标准工艺MOSFET HCI效应进行可靠性设计成为可能,大大降低集成电路设计的风险与成本。 | ||
搜索关键词: | mosfet bsim3 载流子 注入 可靠性 模型 建模 方法 | ||
【主权项】:
1.一种应用于MOSFET电学仿真的BSIM3热载流子注入可靠性模型的建模方法,其特征在于包括以下步骤:(1)根据通用的MOSFET晶体管BSIM3 SP ICE仿真模型,选取与偏压大小条件相关的第一标准参数、以及与偏压时间条件相关的第二标准参数;(2)对每个标准参数,依次选取可靠性参数作为其调制因子,得出每个第一标准参数关于偏压大小条件的计算公式,或者得出第二标准参数关于偏压时间条件的计算公式;(3)根据标准工艺MOSFET晶体管,选择不同偏压大小条件下进行测量,并使用所述MOSFET晶体管BSIM3 SPICE通用的仿真模型进行参数提取,提取每个第一标准参数在不同偏压大小条件下的数值,推导出所述调制因子的数值,确定每个第一标准参数的计算公式;(4)根据标准工艺MOSFET晶体管,选择不同偏压时间条件下进行测量,并使用所述通用的MOSFET晶体管BSIM3 SPICE仿真模型进行参数提取,提取每个第二标准参数在不同偏压大小条件下的数值,推导出所述调制因子的数值,确定每个第二标准参数的计算公式;其中,Vds表示MOSFET的漏极和源极之间的电压。
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