[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 200910053051.X 申请日: 2009-06-15
公开(公告)号: CN101924102A 公开(公告)日: 2010-12-22
发明(设计)人: 陈德威 申请(专利权)人: 慧国(上海)软件科技有限公司;慧荣科技股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L23/52;H01F37/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 200433 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种半导体装置,上述半导体装置包括一顶层内连线金属层(Mtop)图案;一顶层下一层内连线金属层(Mtop-1)图案,位于上述顶层内连线金属层图案的正下方;一第一介层孔插塞图案,垂直设置于上述顶层内连线金属层图案与上述顶层下一层内连线金属层图案之间,且电性连接上述顶层内连线金属层图案与上述顶层下一层内连线金属层图案,其中从俯视方向看去,上述顶层内连线金属层图案、上述顶层下一层内连线金属层图案与上述第一介层孔插塞图案具有相互平行的轮廓。本发明的半导体装置可在相同的布局面积下具有庞大的厚度,可大为降低电感元件的电阻值,提升电感元件的品质系数。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,包括:一顶层内连线金属层(Mtop)图案;一顶层下一层内连线金属层(Mtop 1)图案,位于该顶层内连线金属层图案的正下方;以及一第一介层孔插塞图案,垂直设置于该顶层内连线金属层图案与该顶层下一层内连线金属层图案之间,且电性连接该顶层内连线金属层图案与该顶层下一层内连线金属层图案,其中从俯视方向看去,该顶层内连线金属层图案、该顶层下一层内连线金属层图案与该第一介层孔插塞图案具有相互平行的轮廓。
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