[发明专利]薄膜晶体管阵列基板制造方法

摘要

本发明涉及一种薄膜晶体管阵列基板制造方法，该制造方法对栅层和硅岛层合用一道光罩，钝化层和透明导电层合用一道光罩，从而由5道光罩变为3道光罩实现，因而减少了两道光罩工序，简化制造过程，降低成本，提高产量。

主权项

1.一种薄膜晶体管阵列基板制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：提供一基板，并在该基板上连续沉积第一层金属、栅绝缘层、半导体层和一第一光刻胶层，利用一第一光罩形成栅线、栅极、栅焊盘以及硅岛，所述硅岛上留有光刻胶层；在该基板上二次沉积栅绝缘层覆盖栅线、栅极和栅焊盘，之后进行剥离，露出硅岛；在该基板上继续沉积第二金属层和一第二光刻胶层，利用一第二光罩形成数据线、源极、漏极和数据焊盘；在该基板上继续沉积钝化层和一第三光刻胶层，利用一第三光罩形成接触孔，并通过灰化，去掉像素区域的光刻胶，保留其他区域光刻胶；在该基板上沉积ITO透明导电层，经过剥离工序，使得非像素区的ITO与光刻胶一起被剥离掉，形成像素电极。