[发明专利]毛细管电泳芯片制备方法无效

专利信息
申请号: 200910053745.3 申请日: 2009-06-25
公开(公告)号: CN101590998A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 丁桂甫;姚锦元;程吉凤;吴日新;宿智娟 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;G01N27/447
代理公司: 上海交达专利事务所 代理人: 王锡麟;王桂忠
地址: 200240*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种微细加工技术领域的毛细管电泳芯片制备方法,包括如下步骤:制备第一粘附-种子层;甩第一光刻胶,烘胶,光刻支撑立柱的结构图形;在支撑立柱的结构图形的空腔内电镀支撑立柱;制备第二粘附-种子层;甩第二光刻胶,烘胶,光刻毛细管电泳芯片图形;在毛细管电泳芯片图形空腔内电镀;依次去除第二层光刻胶、第二粘附-种子层,得到悬空的金属管网状结构;以金属管网状结构为阴极,惰性金属为阳极,将二者浸入阴极电泳液中,通电,得到被薄膜包裹的金属管网状结构;在薄膜上开出两孔,然后将被薄膜包裹的金属管网状结构烧结,腐蚀,即得毛细管电泳芯片。本发明的方法制作的毛细管芯片精度高,易于大批量生产。
搜索关键词: 毛细管 电泳 芯片 制备 方法
【主权项】:
1、一种毛细管电泳芯片制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,清洗玻璃基片,烘干,在基片上溅射Cr作为粘附层,在粘附层上溅射Cu作为种子层,粘附层和种子层合为第一粘附-种子层;步骤二,在第一粘附-种子层上甩第一光刻胶,烘胶,在第一光刻胶上光刻支撑立柱的结构图形;步骤三,在支撑立柱的结构图形的空腔内电镀支撑立柱,电镀的厚度与第一光刻胶的厚度相同;步骤四,在第一光刻胶和支撑立柱上溅射Cr作为粘附层,在粘附层上溅射Cu为作种子层,粘附层和种子层合为第二粘附-种子层;步骤五,在第二粘附-种子层上甩第二光刻胶,烘胶,在第二光刻胶上光刻毛细管电泳芯片图形;步骤六,在毛细管电泳芯片图形空腔内电镀,电镀厚度和第二光刻胶的厚度相同;步骤七,依次去除第二层光刻胶、第二粘附-种子层,得到悬空的金属管网状结构;步骤八,以金属管网状结构为阴极,惰性金属为阳极,将二者浸入阴极电泳液中,通电,得到被薄膜包裹的金属管网状结构;步骤九,在薄膜上开出两孔,然后将被薄膜包裹的金属管网状结构烧结,之后放入腐蚀液中浸泡,即得毛细管电泳芯片。
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