[发明专利]一种细小文字的超精细雕刻方法无效

专利信息
申请号: 200910056116.6 申请日: 2009-08-07
公开(公告)号: CN101987528A 公开(公告)日: 2011-03-23
发明(设计)人: 卫永新 申请(专利权)人: 上海运安制版有限公司
主分类号: B41C1/045 分类号: B41C1/045
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 赵志远
地址: 201805 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种细小文字的超精细雕刻方法,包括:将电雕机图案在拼版时作分雕处理;调整雕刻机雕刻头,设定P卡上交流信号;退回滑脚,使电流维持在平衡范围内,进行试雕;检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同,且电流维持在平衡范围内,若是,则进行雕刻;雕刻完成后,退回至试雕位再试雕一次,测量高光槽宽度是否变化,若否,则雕刻完成。本发明使用原有雕刻电流的直流控制信号来进行雕刻,它在铜层上所雕刻图形是由长短不同的槽组成,而不是以往的网点,边缘整齐,原有网墙的空间也被雕刻为含墨槽,所以相同文字的含墨量为原有的两倍,同时耐印率也可以达到正常雕刻的近二倍,含墨量是正常的两倍,并且文字印刷效果清晰、实在。
搜索关键词: 一种 细小 文字 精细 雕刻 方法
【主权项】:
一种细小文字的超精细雕刻方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理;2)调整雕刻机雕刻头,设定P卡上交流信号;3)退回滑脚,使电流维持在平衡范围内,进行试雕;4)检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同,且电流维持在平衡范围内,若是,则进行雕刻;5)雕刻完成后,退回至试雕位再试雕一次,测量高光槽宽度是否变化,若否,则雕刻完成。
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