[发明专利]倒装发光二极管的制备方法有效
申请号: | 200910057583.0 | 申请日: | 2009-07-09 |
公开(公告)号: | CN101593801A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
发明(设计)人: | 颜建锋;郝茂盛;李淼;周健华;潘尧波;袁根如;陈诚;李士涛;张国义 | 申请(专利权)人: | 上海蓝光科技有限公司;彩虹集团公司;北京大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/782;H01L21/784;H01L27/15 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 孙大为 |
地址: | 201210上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种倒装发光二极管的制备方法,包括如下步骤:1)先在衬底表面制造出周期性排列的微结构图形;2)在具有微结构图形的衬底表面制备发光二极管结构,之后分别制备P电极和N电极;3)从衬底的背面采用激光照射衬底,使衬底与发光二极管结构分离,此时即将微结构图形转移至发光二极管结构中靠近N层的一侧表面。采用本发明的方法,先在衬底上制备图形,之后制备发光二极管及P/N电极,并最终通过激光照射将图形转移到发光二极管结构中靠近N层的一侧表面,使倒装焊接后作为出光面的该侧表面形成图形结构,从而提高发光二极管的出光效率。 | ||
搜索关键词: | 倒装 发光二极管 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种倒装发光二极管的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1)先在衬底表面制造出周期性排列的微结构图形;2)在所述具有微结构图形的衬底表面制备发光二极管结构,并分别制备P电极和N电极;3)从所述衬底的背面采用激光照射所述衬底,使所述衬底与发光二极管结构分离,从而将所述衬底上的微结构图形转移至所述发光二极管结构中靠近N层的一侧表面。
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