[发明专利]一种制作背面铝扩散的N型太阳能电池的方法无效
申请号: | 200910062233.3 | 申请日: | 2009-05-26 |
公开(公告)号: | CN101635319A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 丁孔奇 | 申请(专利权)人: | 珈伟太阳能(武汉)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄行军 |
地址: | 430206湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种制作背面铝扩散的N型太阳能电池的方法,该方法工艺流程为:1)N型硅片化学处理,正面制绒;2)在N型硅片背面镀一层氮化硅隔离膜;3)在N型硅片正面进行磷扩散形成N+层;4)对N型硅片周边刻蚀,去除边缘导电层;5)去除氮化硅隔离膜;6)在N型硅片正面制作氮化硅减反射膜;7)制作背面铝扩散P层及正负电极。本发明利用常规P型太阳能电池设备制作N型太阳能电池的过程中涉及到磷、铝两次扩散掺杂,在磷扩散前在背面镀一层氮化硅膜阻止磷原子扩散到硅,然后在去磷硅玻璃的时候同时去掉氮化硅隔离膜,使得本发明无需对常规P型太阳能的产线进行改造就可以生产N型电池,解决了生产N型电池与P型电池共线生产的关键问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 制作 背面 扩散 太阳能电池 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制作背面铝扩散的N型太阳能电池的方法,该方法工艺流程为:1)N型硅片化学处理,正面制绒;2)在N型硅片背面镀一层氮化硅隔离膜;3)在N型硅片正面进行磷扩散形成N+层;4)对N型硅片周边刻蚀,去除边缘导电层;5)去除氮化硅隔离膜;6)在N型硅片正面制作氮化硅减反射膜;7)制作背面铝扩散P层及正负电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珈伟太阳能(武汉)有限公司,未经珈伟太阳能(武汉)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910062233.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:聚乙二醇二妥尔油酸酯的合成方法
- 下一篇:通信系统中的资源分配
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的