[发明专利]中空碳酸钙方解石晶体的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910065119.6 申请日: 2009-06-04
公开(公告)号: CN101580261A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 杜祖亮;吴新志;戴树玺;张兴堂 申请(专利权)人: 河南大学
主分类号: C01F11/18 分类号: C01F11/18
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 代理人: 刘建芳
地址: 47500*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 中空碳酸钙方解石晶体的制备方法,属仿生合成领域。该法在无尘箱内进行,包括两个步骤:1)将聚β-苯甲基天门冬氨酸溶于挥发性溶剂中制成铺展液,然后将铺展液滴于去离子水亚相表面上,使聚β-苯甲基天门冬氨酸铺展成单分子膜,保持一段时间以使溶剂挥发,然后开始压膜,目标表面压为19~21mN/m,达到目标压后将亚相表面的单分子层转移到疏水基片上;2)提膜后的基片干燥后斜插入浓度为4.9~5.1mM的碳酸氢钙溶液中使晶体生长20~28h,晶体生长温度控制在25±1℃。产物经X射线衍射分析确认为方解石晶体;扫描电镜结果显示晶体呈规则的碟状且为中空结构。本发明对实验设备和条件要求较低,可操作性强,可重复性好。
搜索关键词: 中空 碳酸钙 方解石 晶体 制备 方法
【主权项】:
1、一种中空碳酸钙方解石晶体的制备方法,其特征在于,该方法在无尘箱内进行,包括两个步骤:1)将聚β-苯甲基天门冬氨酸溶于挥发性溶剂中制成铺展液,然后将铺展液滴于去离子水亚相表面上,使聚β-苯甲基天门冬氨酸铺展成单分子膜,保持一段时间以使溶剂挥发,然后开始压膜,目标表面压为19~21mN/m,达到目标压后将亚相表面的单分子层转移到疏水基片上;2)提膜后的基片干燥后斜插入浓度为4.9~5.1mM的碳酸氢钙溶液中使晶体生长20~28h,晶体生长温度控制在25±1℃。
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