[发明专利]背入射式TiO2紫外光探测器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910067032.2 申请日: 2009-06-02
公开(公告)号: CN101562208A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 阮圣平;孔祥梓;骆俊谕;李福民;陶晨;瞿鹏飞;张歆东;董玮;刘彩霞 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: H01L31/09 分类号: H01L31/09;H01L31/036;H01L31/0224;H01L31/18;C23C14/34
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 代理人: 张景林;刘喜生
地址: 130023吉林省*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明属于半导体光电探测器件领域,具体涉及一种以石英为衬底,以纳米TiO2薄膜为基本紫外光探测材料,以Ni为金属电极的背入射式紫外光探测器及其制备方法。该探测器以石英为衬底,采用M-S-M(金属-半导体-金属)结构。该紫外光探测器的制作方法是:采用溶胶-凝胶技术,在石英衬底上生长一层TiO2纳米薄膜,然后再在制备好的TiO2薄膜上通过磁控溅射的方法蒸发一层薄Ni实现电极接触,采用光刻技术得到Ni插指状电极。本发明制备的MSM平面双肖特基势垒结构紫外光探测器,采用背入射方式工作,可大幅提高器件的响应度。器件对波长250nm~350nm的紫外线具有良好的检测性能。
搜索关键词: 入射 tio sub 紫外光 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1、背入射式TiO2紫外光探测器,其特征在于:从下到上依次包括石英衬底(1)、采用溶胶凝胶法在石英衬底(1)上生长的纳米晶TiO2薄膜(2)、在纳米晶TiO2薄膜上用磁控溅射法制备的Ni插指电极(3),待探测的紫外光(4)从石英衬底(1)处入射。
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