[发明专利]少子寿命大于等于1000微秒的N型太阳能硅单晶生长工艺有效
申请号: | 200910070376.9 | 申请日: | 2009-09-08 |
公开(公告)号: | CN101724899A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 任丙彦;任丽 | 申请(专利权)人: | 任丙彦;任丽 |
主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B15/00 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 王小静 |
地址: | 300130 天津市红*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种少子寿命大于等于1000微秒的N型太阳能硅单晶生长工艺。外型6~8英寸,<100>晶向、电阻率范围为1~20Ω·cm、表皮及截面少数载流子寿命≥1000μs,间隙氧含量为[Oi]≤17.5ppma,替位碳含量为[Cs]≤0.5ppma。以磷掺杂的块状多晶硅为原料制备,包括:装料、加热、引径、等径、收尾、冷却,程序升温稳态加热化料,待熔硅内部热场稳定后,开始引细径,提单晶尾部至导流筒上沿,冷却时间不大于3小时。本发明晶体生长方法实用、效率高、成本低,能够以CZ法制得N型单晶硅从头部至尾部完全大于等于1000微秒,为高效太阳能电池的提高效率创造了工业化的基础。 | ||
搜索关键词: | 少子 寿命 大于 等于 1000 微秒 太阳能 硅单晶 生长 工艺 | ||
【主权项】:
一种直拉法生长N型高寿命硅单晶棒,其特征在于:<100>晶向、电阻率范围为1~20Ω·cm、表皮及截面少数载流子寿命≥1000μs,间隙氧含量为[Oi]≤17.5ppma,替位碳含量为[Cs]≤0.5ppma。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于任丙彦;任丽,未经任丙彦;任丽许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910070376.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:船舶多波束声学设备安装工艺
- 下一篇:一种终端、备份文件管理的方法及系统