[发明专利]连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法有效
| 申请号： | 200910071492.2 | 申请日： | 2009-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN101487907A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 金鹏;刘婷婷;刘楠;谭久彬 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B3/08;G03F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法，该方法包括以下步骤：①以连续浮雕结构微光学元件的理想形貌为基准，得到抗蚀剂表面设计轮廓，并以此为起点；②通过MCFPM模型，仿真分析得到该抗蚀剂轮廓经过干法刻蚀后的传递形貌；③将步骤②中得到的仿真传递形貌与理想形貌相比较，得到图形传递误差，并将其叠加到步骤②起始的抗蚀剂表面轮廓上，得到经过补偿后抗蚀剂设计轮廓；④以步骤③中得到的抗蚀剂设计轮廓作为新的仿真起点，重复进行步骤②和③，得到二次补偿的仿真形貌；⑤重复步骤④所述的仿真及迭代过程，直至仿真传递形貌和理想形貌的误差满足要求；该方法具有成本低、普适性好等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 浮雕 结构 微光 元件 刻蚀 图形 传递 误差 补偿 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：①、以连续浮雕结构微光学元件的理想形貌为基准，得到抗蚀剂表面设计轮廓，并以此为起点；②、通过Monte Carlo feature profilemodel(MCFPM)模型，仿真分析得到该抗蚀剂轮廓经过干法刻蚀后的传递形貌；③、将步骤②中得到的仿真传递形貌与理想形貌相比较，得到图形传递误差，并将其叠加到步骤②起始的抗蚀剂表面轮廓上，得到经过补偿后抗蚀剂设计轮廓；④、以步骤③中得到的抗蚀剂设计轮廓作为新的仿真起点，重复进行步骤②和③，得到二次补偿的仿真形貌；⑤、重复步骤④所述的仿真及迭代过程，直至仿真传递形貌和理想形貌的误差满足要求，并将此时得到的抗蚀剂设计轮廓作为进行连续浮雕微光学元件干法刻蚀工艺前的抗蚀剂设计轮廓使用。
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