[发明专利]一种高垂直度、温度及压力处理装置有效
| 申请号： | 200910077901.X | 申请日： | 2009-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN101478075A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 张晓冬 | 申请（专利权）人： | 北京德鑫泉科技发展有限公司 |
| 主分类号： | H01Q1/00 | 分类号： | H01Q1/00;H01Q1/22 |
| 代理公司： | 北京双收知识产权代理有限公司 | 代理人： | 左明坤 |
| 地址： | 100176北京市经济技术开*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种高垂直度、温度及压力处理装置包括基座(5)，基座(5)上安装有压力施加装置，压力施加装置与带有上热压头(1)的上热压头座(2)相连，所述上热压头座(2)的侧面与滑块(3)相连，滑块(3)与滑道(4)相配合，滑道(4)固定在所述基座(5)上。其目的在于提供一种产品的合格率高，质量好的高垂直度、温度及压力处理装置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 垂直 温度 压力 处理 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种高垂直度、温度及压力处理装置，包括基座(5)，基座(5)上安装有压力施加装置，压力施加装置与带有上热压头(1)的上热压头座(2)相连，其特征在于所述上热压头座(2)的侧面与滑块(3)相连，滑块(3)与滑道(4)相配合，滑道(4)固定在所述基座(5)上。
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