[发明专利]真空测量装置控制系统及半导体加工装置无效
| 申请号： | 200910078368.9 | 申请日： | 2009-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN101819438A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 武小娟 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G05B23/02 | 分类号： | G05B23/02;G01L21/00 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人： | 赵镇勇 |
| 地址： | 100016 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空测量装置控制系统及半导体加工装置，真空测量装置控制系统包括真空测量装置、真空获得装置，真空测量装置通过电源供电，真空测量装置与电源之间连接有监控复位电路；当真空测量装置向真空获得装置发出的开关信号失效时，监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程，对于真空规由于环境因素波动引起的瞬间故障，能够通过复位过程排除，避免造成分子泵的频繁起停，增强了机台的可靠性和在线故障诊断性能。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 测量 装置 控制系统 半导体 加工 | ||
【主权项】：
一种真空测量装置控制系统，包括真空测量装置、真空获得装置，所述真空测量装置通过电源供电，其特征在于，所述真空测量装置与所述电源之间连接有监控复位电路；当所述真空测量装置向所述真空获得装置发出的开关信号失效时，所述监控复位电路对所述真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程。
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