[发明专利]磁控溅射靶材表面粗糙度的监测方法和系统有效
| 申请号： | 200910078644.1 | 申请日： | 2009-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN101819030A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 代伍坤 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁控溅射靶材表面粗糙度的监测方法和系统。该方法包括：步骤1、在对靶材和基板之间施加电压以对基板进行镀膜之前，测试所述靶材当前状态下各测试区的表面粗糙度；步骤2、根据靶材当前状态下各测试区的表面粗糙度，生成靶材的表面粗糙度变化曲线，并将所述表面粗糙度变化曲线与预设的所述靶材的表面粗糙度标准变化曲线进行比较，获取所述靶材表面各测试区的粗糙度偏差；步骤3、在所述粗糙度偏差超出设定的阈值时，输出用于提示靶材表面粗糙度异常的报警信息；否则，输出用于提示靶材表面粗糙度正常的信息。本发明有利于降低由于靶材表面粗糙度异常导致产品不良的几率，提高磁控溅射靶表面粗糙度监测的及时性和效率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 表面 粗糙 监测 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶材表面粗糙度的监测方法，其特征在于，包括：步骤1、在对靶材和基板之间施加电压以对所述基板进行镀膜之前，测试所述靶材当前状态下各测试区的表面粗糙度；步骤2、根据所述靶材当前状态下各测试区的表面粗糙度，生成所述靶材的表面粗糙度变化曲线，并将所述表面粗糙度变化曲线与预设的所述靶材的表面粗糙度标准变化曲线进行比较，获取所述靶材表面各测试区的粗糙度偏差；步骤3、在所述粗糙度偏差超出设定的阈值时，输出用于提示靶材表面粗糙度异常的报警信息；否则，输出用于提示靶材表面粗糙度正常的信息。
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