[发明专利]基于(Bi2O31-X(Y2O3X固体电解质薄膜的非挥发记忆元件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910079449.0 申请日: 2009-03-11
公开(公告)号: CN101834272A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 史磊;尚大山;孙继荣;赵同云;沈保根 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;C01G29/00;G11C11/56
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 郭广迅
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种基于(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜的非挥发性记忆元件,所述非挥发性记忆元件包括衬底、底电极、(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜和顶电极,其中(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜夹在底电极和顶电极之间,底电极位于所述衬底上,两条引线分别由底电极和顶电极引出,并且(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜中x的范围为0.25<x<0.43。该非挥发性记忆元件的厚度为10-1000nm。其中的(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜是利用脉冲激光照射(Bi2O3)1-x(Y2O3)x靶材沉积而成,所述靶材是将Bi2O3粉末和Y2O3粉末混合烧结制备的。本发明的基于(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜的非挥发性记忆元件具有体积小、结构简单、具有非挥发记忆功能、低能耗、无机械运动部件等优点,并且它的性能对氧气压,温度,和化学计量比等制备条件不敏感。
搜索关键词: 基于 bi sub 固体 电解质 薄膜 挥发 记忆 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜的非挥发性记忆元件,其特征在于,所述非挥发性记忆元件包括衬底、底电极、(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜、顶电极和两条引线,其中(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜夹在底电极和顶电极之间,底电极位于衬底上,两条引线分别由底电极和顶电极引出,并且(Bi2O3)1-x(Y2O3)x固体电解质薄膜中x的取值范围为0.25<x<0.43。
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