[发明专利]带有倒V型耦合光波导小发散角半导体激光器结构无效

专利信息
申请号: 200910080070.1 申请日: 2009-03-18
公开(公告)号: CN101841123A 公开(公告)日: 2010-09-22
发明(设计)人: 熊聪;王俊;崇锋;刘素平;马骁宇 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/00 分类号: H01S5/00;H01S5/20;H01S5/068;G02B6/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种带有倒V型耦合光波导小发散角半导体激光器结构,其中包括:一衬底,该衬底用于在其上生长激光器各外延层材料;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底上;一第一N型下限制层,该第一N型下限制层制作在缓冲层上;一倒V型耦合光波导层,该倒V型耦合光波导层制作在第一N型下限制层上;一第二N型下限制层,该第二N型下限制层制作在倒V型耦合光波导层上;一下波导层,该下波导层制作在第二N型下限制层上;一有源区,该有源区制作在下波导层上;一上波导层,该上波导层制作在有源区上;一P型上限制层,该P型上限制层制作在上波导层上;一过渡层,该过渡层制作在P型上限制层上;一电极接触层,该电极接触层制作在过渡层上。
搜索关键词: 带有 耦合 波导 发散 半导体激光器 结构
【主权项】:
一种带有倒V型耦合光波导小发散角半导体激光器结构,其特征在于,其中包括:一衬底,该衬底用于在其上生长激光器各外延层材料;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底上;一第一N型下限制层,该第一N型下限制层制作在缓冲层上;一倒V型耦合光波导层,该倒V型耦合光波导层制作在第一N型下限制层上;一第二N型下限制层,该第二N型下限制层制作在倒V型耦合光波导层上;一下波导层,该下波导层制作在第二N型下限制层上;一有源区,该有源区制作在下波导层上;一上波导层,该上波导层制作在有源区上;一P型上限制层,该P型上限制层制作在上波导层上;一过渡层,该过渡层制作在P型上限制层上;一电极接触层,该电极接触层制作在过渡层上。
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