[发明专利]一种降解全氟取代化合物的方法无效
申请号: | 200910081468.7 | 申请日: | 2009-04-08 |
公开(公告)号: | CN101524583A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 张彭义;赵宝秀 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | A62D3/176 | 分类号: | A62D3/176;B01J23/08;C02F1/32;A61L9/20;A62D101/22;A62D101/28;C02F101/36 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 关 畅 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种降解全氟取代化合物的方法,包括以下步骤:在无氧条件下,采用β-Ga2O3作为光催化剂,用波长为185-254nm的紫外光照射全氟取代化合物,使全氟取代化合物降解。本发明的降解全氟取代化合物的方法具有以下优点:工艺结构简单,在常温常压条件下进行,不需要复杂的设备;对全氟取代化合物的初始浓度没有要求,任意浓度和pH值条件下的全氟取代化合物均可以采用本发明方法进行处理;降解产物的毒性降低,易于采用其他方法进一步处理。 | ||
搜索关键词: | 一种 降解 取代 化合物 方法 | ||
【主权项】:
1、一种降解全氟取代化合物的方法,包括以下步骤:在无氧条件下,采用β-Ga2O3作为光催化剂,用波长为185-254nm的紫外光照射全氟取代化合物,使全氟取代化合物降解。
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