[发明专利]一种降解全氟取代化合物的方法无效

专利信息
申请号: 200910081468.7 申请日: 2009-04-08
公开(公告)号: CN101524583A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 张彭义;赵宝秀 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: A62D3/176 分类号: A62D3/176;B01J23/08;C02F1/32;A61L9/20;A62D101/22;A62D101/28;C02F101/36
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 关 畅
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种降解全氟取代化合物的方法,包括以下步骤:在无氧条件下,采用β-Ga2O3作为光催化剂,用波长为185-254nm的紫外光照射全氟取代化合物,使全氟取代化合物降解。本发明的降解全氟取代化合物的方法具有以下优点:工艺结构简单,在常温常压条件下进行,不需要复杂的设备;对全氟取代化合物的初始浓度没有要求,任意浓度和pH值条件下的全氟取代化合物均可以采用本发明方法进行处理;降解产物的毒性降低,易于采用其他方法进一步处理。
搜索关键词: 一种 降解 取代 化合物 方法
【主权项】:
1、一种降解全氟取代化合物的方法,包括以下步骤:在无氧条件下,采用β-Ga2O3作为光催化剂,用波长为185-254nm的紫外光照射全氟取代化合物,使全氟取代化合物降解。
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