[发明专利]用于取样光纤光栅制作的振幅掩模板的制作方法无效
申请号: | 200910082145.X | 申请日: | 2009-04-16 |
公开(公告)号: | CN101539719A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 李唐军;傅永军;王目光;简水生;钟康平 | 申请(专利权)人: | 北京交通大学 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/00;G02B6/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100044北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于取样光纤光栅制作的振幅模板的制作方法,属于信息技术领域的光纤通信方向。该方法的步骤1,利用光纤拉丝塔拉制直径为d:d=c/(2kΔv·neff)石英棒,式中c为真空中的光速,neff为石英棒的有效折射率,Δv为取样光纤光栅的峰间距,k是每一个振幅采样周期内透明石英棒和不透明石英棒的和;步骤2,切割石英棒,切割成长度为l2的石英短棒,l2≥l3,l3为振幅掩模板夹具的宽度;步骤3,将上述石英短棒紧密排列并固定在振幅掩模板夹具上,构成振幅掩模板。通过相邻单元随心所欲的设计,实现各种幅度掩模。其制作方法灵活、简单和成本低(众所周知,目前光纤非常便宜),制作精度非常高。 | ||
搜索关键词: | 用于 取样 光纤 光栅 制作 振幅 模板 制作方法 | ||
【主权项】:
1.用于取样光纤光栅制作的振幅掩模板的制作方法,其特征在于:该制作方法的步骤:步骤1,利用光纤拉丝塔拉制透明石英棒或不透明石英棒,其直径为d: 式中c为真空中的光速,neff为透明石英棒的有效折射率,Δv为取样光纤光栅的峰间距,k是每一个振幅采样周期内透明石英棒和不透明石英棒的和;步骤2,将拉制的透明石英棒或不透明石英棒切割成透明石英棒短棒或不透明石英短棒;透明石英棒或/和不透明石英短棒构成制作取样光纤光栅振幅掩模板的一个取样单元;步骤3,将上述透明石英棒或/和不透明石英短棒紧密排列并固定在振幅掩模板夹具上,构成振幅掩模板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京交通大学,未经北京交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910082145.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备