[发明专利]高饱和磁化强度和高玻璃形成能力的铁基软磁材料有效

专利信息
申请号: 200910083111.2 申请日: 2009-04-30
公开(公告)号: CN101604567A 公开(公告)日: 2009-12-16
发明(设计)人: 吕昭平;李宏祥;焦增宝;陈国良;吴渊 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: H01F1/147 分类号: H01F1/147;H01F1/153
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一系列新型高饱和磁化强度和高玻璃形成能力的铁基非晶和纳米晶软磁合金材料,其成分公式如下:FeaCbSicBdPeMfOgReh,M为过渡族元素中的一种,Re为稀土元素,其中a+b+c+d+e+f+g+h=100%,b的原子百分比范围为0-22,c的原子百分比范围为0-22,d的原子百分比范围为0-22,e的原子百分比范围为0-22,f的原子百分比范围为:当M为Cu时,f=0-2;当M为其余元素时,f=0-10,g的原子百分比范围为0-1,h的原子百分比范围为0-3,a为余量。本发明所涉及的新型合金既有高玻璃形成能力,又有大塑性形变和高的饱和磁化强度,更加适合实际的工业生产环境,具有广泛的产业化前景。
搜索关键词: 饱和磁化强度 玻璃 形成 能力 铁基软磁 材料
【主权项】:
1、具有高饱和磁化强度和强玻璃形成能力的铁基软磁材料,其特征在于,该材料成分公式为FeaCbSicBdPeMfOgReh,M为Al、Mo、Cu、Ga、Co、Ni、Cr、Ti、V、W、Zr、Nb、Ta、Hf等过渡族元素中的一种,Re为稀土元素,其中a+b+c+d+e+f+g+h=100%,b的原子百分比范围为0-22,c的原子百分比范围为0-22,d的原子百分比范围为0-22,e的原子百分比范围为0-22,f的原子百分比范围为:当M为Cu时,f=0-2;当M为其余元素时,f=0-10,g的原子百分比范围为0-1,h的原子百分比范围为0-3,a为余量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学,未经北京科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910083111.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top