[发明专利]基于边带注入锁定用于产生高频微波的集成光电子器件无效

专利信息
申请号: 200910085479.2 申请日: 2009-05-22
公开(公告)号: CN101566777A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 孙长征;黄缙;熊兵;罗毅 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G02F1/35 分类号: G02F1/35;H01S5/026;H04B10/155
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 朱 琨
地址: 100084北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 基于边带注入锁定用于产生高频微波的集成光电子器件,属于微波光子学领域的光电子器件制备技术领域,尤其涉及基于边带注入锁定用于产生高频微波的集成光电子器件。该集成光电子器件将两个从激光器集成在同一个衬底上,在衬底上依次外延下波导层、多量子阱有源层、光栅层、上波导层、上包层、欧姆接触层,通过Y分支波导或多模干涉器将两个从激光器耦合在一起,从而实现外置主激光器调制边带的注入,进行注入锁定;再通过Y分支波导或多模干涉器耦合输出,进行拍差,就可以获得高频微波。本发明还可以进一步集成一个主激光器以及一个电吸收调制器,进一步提高集成度。本发明结构新颖,制作工艺简单,将在未来的高速通讯领域具有良好的应用前景。
搜索关键词: 基于 边带 注入 锁定 用于 产生 高频 微波 集成 光电子 器件
【主权项】:
1.基于边带注入锁定用于产生高频微波的集成光电子器件,其特征在于,是一种在同一芯片上集成了两个从激光器的Y分支波导耦合式光生微波集成光电子器件,含有:依次外延生长在N型衬底上的如下外延层:下包层、下波导层、多量子阱有源层、光栅层、上波导层、上包层、欧姆接触层,在所述N型衬底上镀有N型电极,在所述欧姆接触层上镀有P电极,以及制作在所述上包层上的脊波导结构,在所述脊波导结构的两侧用SiO2绝缘层来覆盖或填平,脊顶上的SiO2绝缘层被腐蚀,以及按两段依次分别集成在所述脊波导结构两端上的从激光器段和Y分支波导段,其中:所述的从激光器段由两个作为从激光器的分布反馈激光器构成,所述两个分布反馈分布反馈激光器的同侧端用所述Y分支波导耦合,在所述两个分布反馈激光器与所述Y分支波导相连处有一个电隔离区,在该电隔离区没有所述P电极和所述欧姆接触层,另外,在所述光栅层上在生长过程中制作出光栅结构,并去除所述Y分支波导段内的光栅结构。
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