[发明专利]低反射镀膜玻璃及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910085518.9 申请日: 2009-05-25
公开(公告)号: CN101898871A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 王烁;徐伯永;宋宇 申请(专利权)人: 天津南玻节能玻璃有限公司
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10;E04B2/88;A47F3/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 301700 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种低反射镀膜玻璃及其制备方法。该镀膜玻璃包括:玻璃基片;第一层氧化物层,位于该玻璃基片上,该第一层氧化物层为SnO2或ZnO;第二层氧化物层,位于该第一层氧化物层上,该第二层氧化物层为SiO2;第三层氧化物层,位于该第二层氧化物层上,该第三层氧化物层为Nb2O5或Bi2O3;最外层氧化物层,位于该第三层氧化物层上,该最外层氧化物层为SiO2。本发明的镀膜玻璃采用多膜层结构,尤其是4层增透膜层结构,从而降低了基片的反射。其单面镀膜玻璃对可见光的透过率为92-95%,对可见光的反射率为4.3-5.0%,双面镀制镀膜玻璃的透过率为95-99%,对可见光的反射率为0.3-1.0%。同时,该产品反射颜色值可根据需求调整,a*和b*值域范围宽。并且,该膜层制备工艺稳定,溅射速度快,日产量高。
搜索关键词: 反射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法
【主权项】:
一种镀膜玻璃,其特征在于,包括:玻璃基片;第一层氧化物层,位于该玻璃基片上,该第一层氧化物层为SnO2或ZnO;第二层氧化物层,位于该第一层氧化物层上,该第二层氧化物层为SiO2;第三层氧化物层,位于该第二层氧化物层上,该第三层氧化物层为Nb2O5或Bi2O3;最外层氧化物层,位于该第三层氧化物层上,该最外层氧化物层为SiO2。
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