[发明专利]彩膜基板及其制造方法无效
| 申请号： | 200910090568.6 | 申请日： | 2009-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101995702A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 刘翔;谢振宇;陈旭 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 曲鹏 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种彩膜基板及其制造方法。彩膜基板包括由金属材料制备的黑矩阵，所述黑矩阵上形成有通过光线的相干干涉降低黑矩阵反射光强度的透明结构层，透明结构层位于黑矩阵的上方。彩膜基板制造方法包括：在基板上形成包括黑矩阵的图形；形成通过光线的相干干涉降低黑矩阵反射光强度的透明结构层，透明结构层位于黑矩阵的上方。本发明利用光线的相干干涉，在黑矩阵上形成通过光线的相干干涉降低黑矩阵反射光强度的透明结构层，降低了射入TFT沟道区域照射有源层的光线强度，从而降低了暗电流，提高了TFT-LCD的显示性能。本发明可以适用于TN模式、VA模式、FFS模式、IPS模式等模式的液晶显示器，具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板，包括由金属材料制备的黑矩阵，其特征在于，所述黑矩阵上形成有通过光线的相干干涉降低黑矩阵反射光强度的透明结构层，所述透明结构层位于黑矩阵的上方。
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