[发明专利]一种离子注入机双法拉第杯测量比值校正系统及校正方法有效
申请号: | 200910090665.5 | 申请日: | 2009-09-03 |
公开(公告)号: | CN102005362A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 邱小莎;伍三忠;龙会跃;邓颖辉;李涛 | 申请(专利权)人: | 北京中科信电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/66;C23C14/48;H01J37/317 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 101111 北京市通州中关村科技园通州园光*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明公开了一种离子束注入机上对双法拉第杯测量比例值进行校正的系统和方法。该校正系统包括移动法拉第杯、剂量采样法拉第杯,闭环控制法拉第杯、剂量检测器、数控扫描发生器、电机运动控制器、控制计算机,各个组件之间的连接关系如摘要附图所示。校正步骤包括:1、启动离子束沿水平方向均匀地扫描,将移动法拉第杯移到硅晶片的中心位置,对扫描离子束进行剂量采样,求算出中心位置处的注入剂量值,公式为: |
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搜索关键词: | 一种 离子 注入 法拉第 测量 比值 校正 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种对双法拉第杯测量比值进行校正的装置,包括移动法拉第杯、剂量采样法拉第杯、闭环控制法拉第杯、剂量检测器、数控扫描发生器、电机运动控制器和控制计算机,其特征在于:所述的移动法拉第杯输出剂量检测器连接;所述的剂量采样法拉第杯输出与剂量检测器连接;所述的闭环控制法拉第杯输出与剂量检测器连接;所述的数控扫描发生器输出与扫描偏转器连接;所述的电机运动控制器输出与移动法拉第杯驱动电机连接;所述的移动法拉第杯、剂量采样法拉第杯、闭环控制法拉第杯、剂量检测器、数控扫描发生器、电机运动控制器与控制计算机连接,由计算机协调动作并进行工作。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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