[发明专利]真空碳热还原制备高纯硅及铝硅合金的方法无效

专利信息
申请号: 200910094007.3 申请日: 2009-01-05
公开(公告)号: CN101462723A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: 马文会;伍继君;周阳;杨斌;戴永年;余文轴;刘大春;秦博;魏奎先;梅向阳;汪竞福 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C01B33/025 分类号: C01B33/025;C22C21/02
代理公司: 昆明慧翔专利事务所 代理人: 周一康
地址: 650031*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种真空碳热还原制备高纯硅及铝硅合金的方法,采用含二氧化硅和三氧化二铝物料为原料,各种不同的碳为还原剂。在真空炉内碳热还原得到金属铝、硅和二氧化硅的混合物,将所生成的金属铝、硅和二氧化硅的混合物与造渣剂进行混合,加热到1500℃以上,二氧化硅造渣去除,并得到熔融态的富含硅的铝硅合金,然后经过定向冷凝,得到高纯硅和铝硅合金。获得的高纯硅纯度大于99.99wt%,铝硅合金中铝和硅的含量总和大于80wt%。工艺流程短、成本低、经济效益高。
搜索关键词: 真空 还原 制备 高纯 合金 方法
【主权项】:
1、一种真空碳热还原制备高纯硅及铝硅合金的方法,包括预处理、真空碳热还原、造渣和定向冷凝几个步骤,其特征在于:1. 1 处理:将含二氧化硅和三氧化二铝物料的原料,为火力发电厂粉煤灰、低铝硅比铝土矿或赤泥中的一种或几种与碳质还原剂木炭、石油焦或煤中的一种各自磨成粒径小于0.27mm的粉末,按含二氧化硅和三氧化二铝物料的原料:碳质还原剂的重量比=12∶1.5-4.5的配比进行配料,混合均匀,压块,并置于真空炉的坩埚中;1. 2 真空碳热还原:控制真空炉内压力为1-4000Pa,温度为1400-2300℃,在坩埚中发生如下反应:C+SiO2=SiO↑+CO↑,SiO=Si+SiO2,3C+Al2O3=2Al+3CO↑,生成金属铝、硅和二氧化硅的混合物,反应时间为5-75分钟,原料中的二氧化硅与碳发生碳热还原反应,生成一氧化硅气体,一氧化硅气体冷却后发生歧化反应,在真空炉中的冷凝盘上得到硅和二氧化硅,而原料中的三氧化二铝与碳发生碳热还原反应后,生成金属铝,挥发后在真空炉中的冷凝盘上与硅和二氧化硅混合,得到金属铝、硅和二氧化硅的混合物;1. 3 造渣:将所生成的金属铝、硅和二氧化硅的混合物与造渣剂氧化钙进行混合,加热到温度为1500℃以上,二氧化硅通过造渣得到去除,并得到熔融态的富含硅的铝硅合金;1. 4 定向冷凝:将熔融态的富含硅的铝硅合金定向冷凝,最后得到高纯硅和铝硅合金,高纯硅纯度大于99.99wt%,铝硅合金中铝和硅的含量总和大于80wt%。
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