[发明专利]玻璃材料高深宽比微结构二次约束流动刻蚀方法无效
| 申请号： | 200910097056.2 | 申请日： | 2009-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN101531466A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 谢海波;郑毅;傅新;杨华勇 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 林怀禹 |
| 地址： | 310027浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种玻璃材料高深宽比微结构二次约束流动刻蚀方法。通过光刻及湿法刻蚀的工艺在抛光后的平板玻璃上刻蚀出三个入口的微流道、中间为有效微流道和一个出口的微流道，再将经过紫外光表面活性处理的PDMS薄膜与带有微流道的平板玻璃键合成微流控芯片，将刻蚀剂注入位于中间的刻蚀剂入口，隔离剂从位于刻蚀剂入口两侧的隔离剂入口注入，通过控制三路流体的流量比，能在已经成型的平板玻璃微流道中刻蚀出高深宽比的二次微结构。本发明在原有微流道的基础上进行二次刻蚀从而在原有微流道内部形成具有高深宽比的二次微结构。只需改变隔离剂与刻蚀剂的流量比即可控制刻蚀宽度，定时改变刻蚀剂和隔离剂的流量即可实现对二次微结构形貌的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 材料 高深 微结构 二次 约束 流动 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
1、一种玻璃材料高深宽比微结构二次约束流动刻蚀方法，其特征在于：通过光刻及湿法刻蚀的工艺在抛光后的平板玻璃上刻蚀出三个入口的微流道、中间为有效微流道和一个出口的微流道，再将经过紫外光表面活性处理的PDMS薄膜与带有微流道的平板玻璃键合，形成Glass-PDMS微流控芯片，使用精密注射泵将刻蚀剂注入位于中间的刻蚀剂入口，隔离剂从位于刻蚀剂入口两侧的隔离剂入口注入，由于隔离剂能约束刻蚀剂流束的宽度和位置，通过控制三路流体的流量比，能在已经成型的平板玻璃微流道中刻蚀出高深宽比的二次微结构。
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