[发明专利]一种含酞菁硅结构单元共轭聚合物制备方法无效
申请号: | 200910098851.3 | 申请日: | 2009-05-15 |
公开(公告)号: | CN101575415A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 李美江;来国桥;蒋剑雄;罗蒙贤;汪嫣 | 申请(专利权)人: | 杭州师范大学 |
主分类号: | C08G77/60 | 分类号: | C08G77/60 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 | 代理人: | 俞润体;朱 实 |
地址: | 310036浙江省杭州市西湖*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种含酞菁硅结构单元共轭聚合物的制备方法。它需要解决的技术问题是,提供一种光电功能,热、氧稳定性均有增加的共轭聚硅烷制备方法。本发明步骤:1)在N2保护,加入有机溶剂、助溶剂和钠砂的重量比为5~20∶0.1~1∶1;2)在避光条件下缓慢加入原料:二氯硅酞菁与含π共轭链节有机硅单体的混合物,反应体系变成蓝紫色;滴加完毕,加热回流,冷却至室温;其中二氯硅酞菁与含π共轭链节有机硅单体的混合物的摩尔比为1∶1~10,原料中氯与钠砂的摩尔比为1∶1~2;3)加入水和乙醇质量比为1~10∶1的混合液终止反应,过滤;上层有机层水洗;减压得粘稠液体,加入四氢呋喃溶解后,再用甲醇沉降纯化得产品。 | ||
搜索关键词: | 一种 含酞菁硅 结构 单元 共轭 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种含酞菁硅结构单元共轭聚合物的制备方法,以二氯硅酞菁、含π共轭链节有机硅单体、钠砂为原料其特征在于包括以下步骤:1)在反应器中通入N2保护,加入有机溶剂、助溶剂和钠砂;其中有机溶剂、助溶剂和钠砂的重量比为5~20∶0.1~1∶1;2)在避光条件下缓慢加入原料:二氯硅酞菁与含π共轭链节有机硅单体的混合物,反应体系变成蓝紫色;滴加完毕,加热回流,冷却至室温;其中二氯硅酞菁与含π共轭链节有机硅单体的混合物的摩尔比为1∶1~10,原料中氯与钠砂的摩尔比为1∶1~2;3)加入水和乙醇混合液终止反应,水和乙醇的质量比为1~10∶1,滤出不溶物;分出上层有机层,水洗;减压蒸出溶剂及低沸物得粘稠液体,加入四氢呋喃溶解后,再用甲醇沉降纯化得含酞菁硅结构单元的共轭共聚物;所述的含π共轭链节有机硅单体通式可表示为:R1R2SiClRSiR3R4Cl,其中,R1,R2,R3或R4选自甲基,乙基,正丙基,异丙基,丁基,苯基或乙烯基;R选自乙炔撑,苯撑,乙烯撑或联苯撑;含π共轭链节有机硅单体可以是其中的一种,也可以是其中的多种按任意摩尔比组成的混合物;所述的有机溶剂选自甲基或二甲苯;所述的助溶剂选自二乙二醇二甲醚,15-冠醚-5,18-冠醚-6或二苯并18-冠醚-6。
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