[发明专利]一种同时识别氯霉素、甲砜霉素、氟甲砜霉素的分子印迹聚合物的制备方法有效
申请号: | 200910101397.2 | 申请日: | 2009-07-31 |
公开(公告)号: | CN101628955A | 公开(公告)日: | 2010-01-20 |
发明(设计)人: | 史西志;李德祥;孙爱丽;苏秀榕 | 申请(专利权)人: | 宁波大学 |
主分类号: | C08F222/14 | 分类号: | C08F222/14;C08F2/44;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30 |
代理公司: | 宁波诚源专利事务所有限公司 | 代理人: | 袁忠卫 |
地址: | 315211*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及到一种能同时识别氯霉素、甲砜霉素和氟甲砜霉素的分子印迹聚合物的制备方法,属于生物工程技术领域。具体为:首先将功能单体、交联剂加入到致孔剂中,混合均匀后,加热,然后加入模板分子甲砜霉素和引发剂,进一步将混合溶液超声脱气,氮气或抽真空状态下密封,进行聚合反应;聚合反应结束后,将合成的聚合物取出研磨、过筛,通过索氏萃取和固相萃取小柱的联用方法,用有机溶剂洗脱除去模板分子,直到通过高效液相色谱-质谱检测不到模板分子为止;最后将除去模板分子的聚合物,真空干燥,得到分子印迹聚合物。本发明制得的聚合物可同时应用于食品中氯霉素、甲砜霉素和氟甲砜霉素抗生素检测的前处理,实现对氯霉素、甲砜霉素和氟甲砜霉素的特异选择性分离和高效富集。 | ||
搜索关键词: | 一种 同时 识别 氯霉素 霉素 氟甲砜 分子 印迹 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种同时识别氯霉素、甲砜霉素、氟甲砜霉素的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)、将功能单体、交联剂加入到致孔剂中,在40~50℃条件下加热,然后加入模板分子混合均匀,得到混合溶液;(2)、向步骤(1)得到的混合溶液中加入引发剂,超声波脱气5~10min;然后通氮气10~15min,抽真空或氮气状态下密封;(3)、在温度为60~70℃的条件下热引发聚合,反应时间为36~48h;(4)、聚合反应结束后,将获得的聚合物取出研磨、筛分,通过有机溶剂去除模板分子;(5)、将除去了模板分子的聚合物真空干燥,得到能同时识别氯霉素、甲砜霉素和氟甲砜霉素的分子印迹聚合物;其中,所述的模板分子为甲砜霉素,所述的致孔剂为乙腈,所述的交联剂为三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(TRIM)或乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA);所述的功能单体为甲基丙烯酸N,N-二乙基氨基乙酯、甲基丙烯酸或三氟甲基丙烯酸;所述模板分子、功能单体、交联剂的摩尔比为1∶1~8∶25;且致孔剂与交联剂的体积比为1∶6~14。
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