[发明专利]铍青铜氧化膜清洗剂及其制备方法

摘要

铍青铜氧化膜清洗剂及其制备方法，属于金属表面化学处理技术领域。铍青铜氧化膜清洗剂由下述重量百分含量的成分组成：硫酸20-50％、硝酸根离子2-20％、有机膦酸2-10％、卤素离子0.01-1％、水余量。其制备方法(1)原料配比，(2)在配方量的有机磷酸中缓缓加入硫酸，充分搅拌，冷却至室温后，再加入硝酸，充分搅拌后，加入卤素离子，即得到铍青铜氧化膜清洗剂。上述的铍青铜氧化膜清洗剂，采用有机膦酸、硫酸、硝酸根离子、卤素离子复配体系，解决了铍青铜氧化膜难以去除的问题，同时代替了传统六价铬的酸洗体系，减少了污染，提高了酸洗效果，经本发明的清洗剂清洗后，铍青铜表面平整光亮，提高了产品的性能和外观。

主权项

1.铍青铜氧化膜清洗剂，其特征在于由下述重量百分含量的成分组成：硫酸 20-50％；硝酸根离子 2-20％；有机膦酸 2-10％；卤素离子 0.01-1％；水 余量。