[发明专利]一种氮化铝覆铜膜前体的制备方法与氮化铝覆铜膜前体、氮化铝覆铜膜及其制备方法无效
申请号: | 200910107160.5 | 申请日: | 2009-04-30 |
公开(公告)号: | CN101875569A | 公开(公告)日: | 2010-11-03 |
发明(设计)人: | 任永鹏;林信平 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | C04B41/88 | 分类号: | C04B41/88;C04B37/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518118 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及陶瓷金属化领域,具体公开了一种氮化铝覆铜膜前体的制备方法与氮化铝覆铜膜前体、氮化铝覆铜膜及其制备方法。其中该氮化铝覆铜膜前体的制备方法,包括:a、在氮化铝基材表面形成厚度为4-10μm的金属预烧层,该金属预烧层含有铜、氧化铜或氧化亚铜中的一种或几种;b、将表面形成有金属预烧层的氮化铝基材置于氧化性气氛中,在1250-1350℃下进行高温热处理,得到覆铜膜半前体;c、将覆铜膜半前体置于还原性气氛中,在550-650℃下还原热处理3-5h,在氮化铝基材表面形成金属层,得到氮化铝覆铜膜前体。通过本发明提供的氮化铝覆铜膜前体制备的氮化铝覆铜膜的导热性能和抗拉强度得到了明显提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 铝覆铜膜前体 制备 方法 铝覆铜膜 及其 | ||
【主权项】:
一种氮化铝覆铜膜前体的制备方法,包括a、在氮化铝基材表面形成厚度为4-10μm的金属预烧层,该金属预烧层含有铜、氧化铜或氧化亚铜中的一种或几种;b、将表面形成有金属预烧层的氮化铝基材置于氧化性气氛中,在1250-1350℃下进行高温热处理,得到覆铜膜半前体;c、将覆铜膜半前体置于还原性气氛中,在550-650℃下还原热处理3-5h,在氮化铝基材表面形成金属层,得到氮化铝覆铜膜前体。
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